Quick Links

原子层沉积(ALD)技术及其应用

Form:    Author:    Data: 2014-12-05
刘忠伟, 杨丽珍, 桑利军, 王正铎, 王东栋, 张春梅, 齐磊,董婉,赵元鑫,孔德霖, 赵元鑫,陈强,
原子层沉积(ALD)技术及其应用,
第十四届全国固体薄膜学术会议, 贵阳,2014.7.29-8.01 (invited)